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離子研磨儀

離子研磨儀

簡要描述:SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。

產(chǎn)品型號: SEMPREP SMART

所屬分類:臺式離子研磨拋光儀

更新時(shí)間:2024-09-20

廠商性質(zhì):其他

詳情介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地進(jìn)口
產(chǎn)品新舊全新

SEMPREP SMART 離子研磨儀

SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導(dǎo)體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。

離子研磨儀

 主要特點(diǎn):

 先進(jìn)的離子槍設(shè)計(jì)和自動(dòng)化功能

 新型用戶友好操作軟件:為用戶提供智能輔助

 更精確的針閥:允許對氣流進(jìn)行精細(xì)調(diào)整

 高精度可調(diào)性:用于精細(xì)調(diào)節(jié)操作
 更長壽命高真空傳感器

產(chǎn)品功能:

 可選低能槍(LEG)

 可選的新型 LN2 冷卻系統(tǒng)

 可選真空轉(zhuǎn)移裝置 (VTU),用于在真空條件下取出樣品

 獨(dú)立的對位樣品臺:在進(jìn)行 90° 加工時(shí)用于精確樣品定位

技術(shù)參數(shù):

離子槍:

超高能量離子槍,最高可達(dá) 16 keV

樣品尺寸

截面樣品臺(可選 30°、90°樣品臺):

  30°樣品臺:最大尺寸16.4mm (長) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚) 

 90°樣品臺:最大尺寸18.6mm (長) x 16mm (寬) x 6mm ()

用于表面加工(EBSD)的平面樣品臺,配有三種不同的頭部類型

 平頭型:最大直徑 50mm x 4mm

 標(biāo)準(zhǔn)型:最大直徑 32mm x 15mm

 空心型:最大直徑 25mm x 23mm

樣品臺移動(dòng)

 樣品傾斜角度:0° 至 30°,每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

 樣品旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié):360 可變速樣品旋轉(zhuǎn),角度速度可調(diào)

 樣品加工擺角(搖擺):±10° 至 ±120°,每 5° 連續(xù)可調(diào)

 樣品冷卻(可選)

液氮冷卻或 Peltier 冷卻

真空系統(tǒng) 

無油隔膜泵和分子泵  

氣體供應(yīng)系統(tǒng) 

純度為 99.999% 的氬氣工作氣體,高精度針閥流量控制 

分子泵

HiPace 80 Neo. 

成像系統(tǒng) 

500萬像素CMOS相機(jī),具有圖像內(nèi)的測量功能 

計(jì)算機(jī)控制 

易于使用的圖形界面,自動(dòng)化離子槍操作和樣品臺 位置校準(zhǔn)



使用氬離子束進(jìn)行加工

離子研磨儀




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